Direct Imaging System SDES Series

개요

  • - 내층, 외층, 솔더 마스크를 포함한 전층 공정 적용
  • - 다품종 PCB 디자인의 소량 생산
  • - 빠른 샘플 생산 대응
  • - 고집적 HDI의 대량 생산

특징

  • - 고정밀 양면 노광 기술

  • - 고출력 레이저 광원 적용

  • - 멀티 광학 헤드 장착으로 생산성 극대화

  • - 실시간 스케일 보정 및 회로폭 보정 기술

  • - PCB 모든 레이어 노광 가능

L/S=10um(DRF:25umt)

L/S=10um(DRF:25umt)

L/S=10um(DRF:25umt)

SPEC

ITEM SPEC
Maximum imaging size 650(W) x 900(L) mm, 2100(W) x 620 (L)mm
Data format Gerber, GDS II, ODB++
Light Source Laser Diode
Exposure Wavelength 375nm, 405nm
Minimum Pattern size 10um, 20um L/S
Data Resolution 0.5um, 1um
Overlay <+5um
Throughput 10Sec (@10mj), 20sec (@23mj)
Auto-Scaling Yes
Auto-Calibration Yes
Calibration of partial Yes
Panel Tracking Yes